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干涉顯微鏡法采用與輪廓儀法相同的試樣處理方法，即造成基體與鍍層之間的臺階，利用多光束干涉測量儀對該臺階的高度進行測量。

干涉測量儀有一個貼于試樣作平面基準板的透鏡。當一束單色光在試樣上和上述透鏡之間來回反射時，就可通過一個低倍顯微鏡來觀察干涉條紋圖像。若將基準板相對于待測試樣表面稍微傾斜，就會形成一系列平行的干涉條紋線。試樣表面的臺階會使干涉條紋偏移。一個條紋間距偏移相當于單色光半個波長的垂直位移，干涉條紋所移動的間距和形狀可用帶刻度線的目鏡測微計來觀察和測定。

本方法可用來測量2μm以下、具有高反射率的鍍層。詳見國際標準ISO3868金屬及其它無機覆蓋層斐索（Fizeau）多光束干涉測量法。